Nieuwe faciliteit EBL2

TNO en de Japanse lichtbronspecialist Ushio gaan een strategisch partnerschap aan dat is gericht op de ontwikkeling van extreem ultraviolet (EUV)-lithografie voor de productie van de volgende generatie halfgeleiders. De overeenkomst daartoe is deze week ondertekend.

Share This Story, Choose Your Platform!

Facebook
Twitter
LinkedIn

Bedrijven

Producten & werkwijze

Membership

Jobs