Het Nederlandse Nearfield Instruments (NFI) zet een nieuwe strategische stap in de wereldwijde halfgeleiderindustrie. Het bedrijf, wereldwijd koploper in 3D, niet-destructieve inline procescontrole op basis van scanning-probe technologie, start een meerjarig ontwikkelprogramma met onderzoeksinstituut Imec in Leuven. Doel: het versnellen van innovaties die cruciaal zijn voor de volgende generatie chipproductie – van high-NA EUV tot 3D-integratie en geavanceerde logica-architecturen. Lees verder [Bron: linkmagazine.nl]
